，步步慢。
我们拿出类似的浸没式光刻机最快也要一年时间。
一旦新芯把关键技术注册了专利，一年时间都不够，三到五年都是完全有可能的。
推出新设备之后，需要用1到3年的时间由厂商通力配合适应，新芯比你早量产就比你多了时间去改善问题和提高良率，这会让我们更加难以超越，一步落后，步步落后。
现在再去走浸润式，我怎么感觉死的更快呢？”
ASML的技术专家们很懊悔，曾经他们有机会走浸润式光刻机路线，但是这个机会被他们内部的决策给亲自否了，业内没有一家走这个技术路线，凭什么他们能走通？
新芯和蔡司配合研发浸润式光刻机的消息传到ASML的耳中时，他们早就确定技术研发方向了。
“没有办法，我们只能把这几年的市场拱手相让，让给新芯，等到EUV的时候再翻盘。
这是唯一的办法了。”
“唉，我们真的还有钱烧这么多年吗？
换句话说，如果在EUV光刻机上，新芯又比我们先完成研发怎么办？”
“不可能，绝对不可能，我们连原型机都已经研发出来了，新芯没有参与EUVLLC的前期论证，华国国家层面压根没有投入到这一块的研发中去过。
Newman再厉害他也不可能改变物理世界的规则，如果是互联网世界，我相信Newman也许能做到。”
EUV也就是极紫外光光刻机，极紫外光的波长只有13.5nm，此时ASML的实验室已经有世界上第一台EUV的原型机了。
在看到新芯已经突破40nm，ASML的技术专家们把希望放在了EUV上，他们认为EUV将让这场竞争彻底失去悬念。
准确来说不是他们这么认为，是业内所有厂商都这么认为，谁先攻克EUV技术，谁将获得光刻机领域的最终胜利，霓虹的巨头们在霓虹产经省的主导下成立了EUVA的研发。
阿美利肯则在能源部的牵头下成立了EUVLLC，由阿美利肯三大顶尖国家实验室：劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室去做技术论证。
技术论证完业界来实现。
因此阿美利肯和霓虹都在拼命往EUV里投入，失利只是暂时的，谁先攻克EUV，这场战争才算结束。
新芯的领先只是阶段性领先。
但是还是很肉痛，先进制程的市场