“光刻机突破确实有含金量，我在来之前和老张一起跑申海采访新芯的时候，顺便去了申海华科院光电所的徐至展院士。
问了他对新芯的看法，无论是当着我们面，还是后来我私下找他学生采访，他们对新芯的光刻机技术都赞不绝口。”
徐至展是院士，此时担任申海光学精密机械研究所的所长，他虽然不是从事光刻机领域研究，但是激光物理装置研究和光刻机多少沾点边。
“徐院士说新芯把光刻技术推向了新的高度，是华国企业在这一领域的新突破。
在新芯进入光刻机领域前，华国最先进的光刻机技术要属燕京那边的华国科学院光电所研发的光刻机。
他们研发的是i线光刻机，光源波长在365nm，工艺精度最高也就0.35微米，而新芯的制程按照他们的说法已经进入了40nm，中间相差了至少两代技术差距。”
因为要拍成纪录片，所以在来之前大家做了大量基础资料的查阅和相关专家的采访，他们很清楚新芯的技术突破意味着什么。
意味着华国和国外的光刻机领域在八十年代被拉开的差距，在这一刻成功实现了逆转。
193nm波长光源的光刻机又叫ArF，如果单纯看光源发展历史的话，光刻机一共经历了五代：436nm的g-line、365nm的i-line、248nm的KrF、193nm的ArF和13.5nm的EUV。
尼康研发的157nm波长光源的干式光刻机因为不是主流，所以没有算在里面。
如果没有新芯的话，此时华国最先进的光刻机应该是华国科学院光电所研发的URE-2025型i-line光刻机，比主流光刻机足足落后代。
说完该男子又嘿嘿一笑，神情中露出一丝不可言状的意味：“我前两天不是去的申海吗？
我有朋友在申海的光电所，他和我说，他们私下本来对新芯怨声载道，这次新芯利用浸润法实现了光刻机制程的反超，一下子他们就没话说了。”
“啊？申海的光电所对新芯怨声载道？
他们那毕业的研究生和博士不是因为新芯，出去待遇翻了三倍都不止么？
他们有什么好怨恨新芯的？”
“呵呵，我听我朋友说，十五攻坚行动里的光刻机项目本来是要分给申海光电所，甚至华电科都打算把他们的45所之前搞光刻机的团队全部迁到申海，和光电所合并，然后一起承担这个项目。