炉技术的发展。
孟欣微笑着说道：
“当然厉害了！决定芯片性能和产能的，不仅仅是光刻机，晶圆的产能和质量，也是非常关键和重要的技术。
仅凭着这项技术，至少可以给你们的芯片节省30%的成本！品质更高的晶圆，也会让芯片加工的良品率更高、性能更好！其实短期内，光刻机的技术没取得突破，仅凭着单晶炉的技术突破，就足以让芯片产能、性能、成本等等指标，都获得大幅度的提升！”
刘森不禁感觉到惊讶：
“这么厉害！”
孟欣说道：
“当然！换做是听你的，头疼医头，脚痛医脚，即使我现在就帮你们改进光刻机技术，保守估计也需要一年以上时间，才能有成效。而且，我现在去给你研发2~1.5微米的光刻机，属于严重浪费宝贵的科研资源。跟在国际厂商后面模仿，你们现在的团队就可以了。
我的团队，将直接从1微米起步，研发投影式光刻机！我参观了维创半导体和L山半导体的工厂，都是接近式光刻机，70年代的技术，现在是主流。但是技术升级潜力有限，所以，很快就会被投影曝光式光刻机所替代！”
刘森点了点头，知道技术上孟欣比自己家兄弟强无数倍。
有未来技术资料作为参考的孟欣，可能是世界上最厉害的技术大牛。
业内人士刚有一个初步的想法，她已经清晰的了解未来的技术发展趋势，很多现在是机密的技术，在未来已经是能公开的资料。
于是，刘森就通知了老大刘焱，刘焱一听立马就不淡定了。
7月份，在刘焱强行的推广之下，维创半导体公司开始正式大规模的推广热屏单晶炉。
虽然，一开始有些技术人员比较固执，觉得贸然采用一种从来没听过的技术有点冒险。但是仅仅过了一周之后，反对声就彻底消失了。
谁反对，生产线上的一线技术人员立马就会敲爆他们的狗头！因为，热屏技术的好处，那是立竿见影的！
采用了热屏技术的单晶炉，不仅仅节约25%的电费，而且，单晶棒的直径、长度都远远超过预期。原本用来实验的是4英寸的单晶炉，这种单晶炉生产出来的晶圆直径应该在101.6毫米，但实际上，改良后生产出来的晶圆直径居然达到117毫米，虽然没达到6英寸，但也算是4.5英寸级！
晶圆直接更大，不仅仅是原材料产能增加的问题，更关键的是，相对于4英寸的晶圆