是连个有意向的人都没有。
但杨振对此却一点也不担心。
毕竟这事目前进行的不顺利的原因，无非还是因为曾经的老苏真的阔气过。
那种在最阔气时期遗留下来的荣誉感和自豪感，让那些老苏家的科学家们在短时间内，几乎没有向国内低头的可能。
其效果，一如国内当年国内挣扎百年，终于一朝一雪前耻。
一口炒面一把雪，却依旧能将被航母飞机大炮武装到牙齿的十几国联军揍的头破血流哭爹喊娘是一个道理。
只可惜和国内当初完全不同的是，国内当初面对的困难，真的就是短时间的困难。
任何人都知道只要顶过去了，那立即就能日月新天。
而现在的老苏，却是帝国黄昏。
他们所面临的困难不仅是毫无止境的，而且还只能越来越差，根本就不可能有缓和的迹象。
一旦信仰崩塌，被挖过来，那是迟早的事情。
聊完厂里的事情，杨振又和黄玲仪聊了一些光刻机方面的事情。
表示经过王益民和曾家安的牵线，工业单位的牵头之下，他和105所，微电子，以及903实验基地的领导开了个座谈会，达成了一个为期十年，每年两千万，总投资过两亿。
初始研发经费五百万，剩余一千五百万看研发成果以奖金的形式进行发放的光刻机相关研发的联合研发项目。
听到这话，黄玲仪激动的是两眼通红，表示有这个项目在。
即便现在官方不怎么重视光刻机的发展，那她也有在十年之内，不至于被国际技术拉的太远的信心。
听到这话，杨振是忍不住的想笑，心说要仅仅是不被国际光刻机技术拉的太开，自己怕就用不着这么大费周章了。
毕竟根据记忆，他很清楚虽说国内的光刻机距离国际先机的确有着十几年的差距。
但要知道即便当前世界最先进的分步式投影光刻机，那最高精度也就只有160微米。
在160微米之后，整个技术就陷入了停滞。
之所以世界芯片的发展，没有因为光刻机技术的发展而陷入停滞，那完全是因为采用了浸入式重复投影的方式来将光刻的精度提升到纳米级。
也就是说只要国内的光刻技术发展到了浸入式光刻这一步，那么国内在光刻技术上，那就能和国际保持在同一个水平线上！
在这之后，国际虽然也为突破浸入式光刻精度的极限进行