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第九十七章 国产半导体(3 / 3)

44n的光刻hpcd。这个要求在实际工艺中很难实现,太接近38n极限值了。”

“所以tel率先使用doublepatterng技术。这一技术把同一层的非常靠近的光刻图案分解到两个掩模(ask)上。分两次曝光实现。”

“同理,self-aligned的技术也被引入,三次曝光,四次曝光都成为了可能。”

程钢听得满脸问号,内心对young在半导体领域的造诣之深感到震惊。

五十岁的人了对前沿技术信手拈来,能做成idg的合伙人果然都是狠人。

他没有打断young,因为他对这方面也很感兴趣。

“所以就光刻技术而言,分辨率并不是大问题。尤其在self-aligion淀积可以实现非常好的精度控制,特别是ald,能实现atoonato的精确控制。”

“既然光刻图案需要被分解到多个ask上,芯片的图案自然不能由着芯片ic设计师随意画了,得遵循光刻的规则。”

“花为海思部门有在申海的,有在鹏城的。没一家在弯弯。”

“而这种光刻版图的规则毫无疑问是芯片代工厂的最高机密。tsc不可能透露给客户的。海思只能把逻辑设计交给台积电,台积电再进行制造的优化。”

“海思原始设计没办法考虑这些光刻规则。这也是为什么业界一直认为长期竞争中,tel与三星优势的原因。”

“三星很早就把三次,甚至四次曝光(self-aligned)技术引入了nandfsh生产。”

“因此当台积电还在22n时,三星就开始宣传我们已经有14甚至10n技术了。大概是13年的时候。”

“三星与台积电在芯片代工中是竞争对手。台积电嘴巴上当然不能输。悄悄的放宽了nodecd的定义,也把自己技术从22n吹到了14n。”

“这种夸大也延续到了现在,实际上三星跟台积电的7n只比tel的14n强一点,强的有限。”

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