动机，但没有研制成功EUV光刻机。
在重生者的目标中，将GCA打造成技术世界第一的光刻机公司，占据高端光刻机市场，将BSEC打造成中端光刻机公司，在中端市场占据一定市场份额。
重生者不是超人！
能否追上G，只能靠BSEC光刻机半导体研究院的科技人员了！
重生者要是将GCA的专利技术偷偷的拿过来送给BSEC，就等着坐牢！
重生者不想当英雄，更不愿意当烈S！
死过一次的人将名誉地位看得很澹。
与家人和朋友享受生活才是重生后最大的愿望！
GCA重获新生，不仅BSEC获利，重生者也能在瓦S纳协定出台之前，有机会引进一条8英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线……
去年底，GCA在研制适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统的过程中，由于在光刻机中安装了一套Zeiss SMT AG生产的新一代光学系统（耗资275万美元），适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统没有研制成功，但光刻机样机制程工艺突破500nm，达到350nm。
意外惊喜！
这款8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，被命名为GCA3500A光刻机。
GCA3500A光刻机追上了Nikon3500A光刻机，由于安装有磁悬浮式双工作台系统，制程工艺精度和生产效率明显超过了Nikon3500A光刻机。
GCA3500A光刻机突破了困扰了G制程工艺光刻机的瓶颈！
孙健吩咐艾德里安申请公司股票停牌，邀请Sematech专家组进行技术认证，拿到认证鉴定后，GCA3500A光刻机制造技术分别向美国专利局和世界专利局申请公司发明专利，邀请全球晶圆公司参观GCA3500A光刻机样机。
由美国政府每年财政拨款1亿美元资助的Sematech，宗旨就是提高美国国内半导体产业的技术。